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什么是PVD？
日期：2024-10-13 15:36
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摘要：
PVD(Physical Vapor Deposition)，指利用物理過程實現(xiàn)物質轉移，將原子或分子由源轉移到基材表面上的過程。它的作用是可以是某些有性能（強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等）的微粒噴涂在性能較低的母體上，使得母體具有更好的性能！ PVD基本方法：真空蒸發(fā)、濺射 、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍）
PVD出現(xiàn)于二十世紀七十年代末，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數(shù)、很好的耐磨性和化學穩(wěn)定性等。初在高速鋼刀具的成功應用引起了各國制造業(yè)的高度重視，人們在高性能、高性涂層設備的同時，也在硬質合金、陶瓷類刀具中進行了更加深入的涂層應用研究。與CVD工藝相比，PVD工藝處理溫度低，在600℃以下時對刀具材料的抗彎強度無影響；薄膜內部應力狀態(tài)為壓應力，更適于對硬質合金復雜刀具的涂層；PVD工藝對環(huán)境無不利影響，符合綠色制造的發(fā)展方向。當前PVD涂層已普遍應用于硬質合金立銑刀、鉆頭、階梯鉆、油孔鉆、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、車刀片、異形刀具、焊接刀具等的涂層處理。
PVD不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結合強度，涂層成分也由代的TiN發(fā)展為TiC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta－C等多元復合涂層。
