文章詳情

什么是LPCVD?

日期:2024-10-13 15:36
瀏覽次數(shù):2013
摘要:
LPCVD--Low Pressure Chemical Vapor Deposition 低壓力化學(xué)氣相沉積法用于氧化硅、氮化物、多晶硅沉積,過程在管爐中執(zhí)行,要求也相當(dāng)高的溫度。
下一篇: 什么是PECVD?
上一篇: 什么是CVD?

滬公網(wǎng)安備 31011702004252號